Chucks mit funktionalen Oberflächenbeschichtungen zur Erhöhung des Verschleißschutzes

Chuck-Design.

Lösungen für Hochleistungsanwendungen.

Berliner Glas unterstützt Unternehmen der Halbleiterindustrie mit innovativen Vakuum Chuck Lösungen und  elektrostatischen Chucks mit Ansteuerung für verschiedenste anspruchsvolle Bearbeitungsschritte.

Unsere Kompetenzen

Chuck Aufbau
  • Chucks für Wafer bis zu 450mm (18inch)
  • Chucks für Masken (Reticle)
  • Kundenspezifische Formate bis 400x500 mm²
  • Ein- oder beidseitiges Clampen
  • Genaues Temparieren bis auf wenige mK
  • Integrierte Heiz- und Kühlfunktion (optional)
  • Hybrid-Chucks (ESC & Vakuum-Chuck kombiniert)
  • Große Bandbreite funktionaler Oberflächenbeschichtungen

electrostatischer Chuck - Aufbau mit Features

Chuck-Aufbau (ESC) mit Features

ESC spezifisch:

  • Couloumb Typ mit bis zu 8 Elektroden pro Seite
  • Mono- und bipolare Systeme
  • Diverse Elektrodenstrukturen bis hin zu feinen Meanderstrukturen mgl.
  • Unterstützt sowohl rotierende als auch laterale Plattformen

 

Vakuum Chuck spezifisch:

  • Mehrfache und getrennte Vakuumsegmente möglich
  • Unterstützt sowohl rotierende als auch laterale Plattformen
Ebenheit

 

Globale Ebenheit - Chuck-Design

Globale Ebenheit < 100nm über 298mm
  • Globale Ebenheit 100nm PV (D= 298mm)
  • Lokale Ebenheit 10nm (20x20mm2)
  • Spezifische Anforderungen an die Ebenheit gemäß der Applikation erfüllbar
Klemmkraft

 

Clampkraft-Zeit-Auswertung eines Chucks

Klemmkraft-Zeit-Abhängigkeit

Homogene Klemmkraft über die gesamte Clampfläche

 

  • Bis zu 0,5 bar Klemmkraft für ESC's und bis zu 1 bar für Vakuum Chucks
  • Zeitkonstanten für Halten und Lösen kleiner 0,1 Sekunden

 

Material
Metalle Keramiken Glas & Glaskeramiken
Aluminium mit Beschichtung SiC, SiSiC
AlN, Si3N4
Al2O3
Cordierit                     
Borosilikatglas
Quarzglas
ULE®, Zerodur®      

 

electrostatic_chuck_made_of_sisic_and_glass.jpg

Elektrostatischer Chuck aus Glas und Keramik
  • Chuck-Materialien mit siliziumangepassten Eigenschaften
  • Materialien mit "Nullausdehnung"
  • Materialien mit hoher Steifigkeit
  • Materialien mit hoher Wärmeleitfähigkeit und Abriebfestigkeit
  • Kombination verschiedener Materialien zur Sicherstellung höchster Performance
  • Alle Materialien erfüllen den Halbleiter-Standard

 

Mikrostruktur

elektrostatischer Chuck mit Noppnstruktur

Noppen-Struktur eines Elektrostatischen Chuck

Noppen-Strukturen können die Kontaktfläche des Wafers zum Chuck um üblicherweise einen Faktor 100 (1% Kontaktfläche) reduzieren (abhängig vom gewählten Noppendurchmesser und Noppenabstand).

  • kein Sticking zwischen Wafer und Chuck
  • sehr geringe Partikelsensitivität
  • Noppengröße bis 200µm im Durchmesser
  • Herstellung von Noppen in einer Höhe zwischen einigen Mikrometern und einigen hundert Mikrometern
Test & Qualifizierung

    In unserem Labor qualifizieren wir Testteile sowie Mess- und Referenzteile und führen Testreihen durch, um die Serienproduktion sicherzustellen.

     

    Messung am Interferometer

    Messung am Interferometer

    mögliche Qualifikationen:

    • Ebenheitsmessung mittels Interferometer (bis 24 Zoll horizontalem und 12 Zoll vertikalem Strahlengang)
    • Kundenspezifische Software für die Auswertung hochgenauer Ebenheiten
    • Elektrische Qualifikation in anwendungsnaher Umgebung (Hochspannungstest)
    • Clampkraft Messung
    • Restgasanalyse (RGA)
    • Backside Kontaminationsanalysen
    • Durchflusstests für Kühlflüssigkeiten und Gas
    Controller

    Wir bieten eine kundenspezifische Lösung für Controller und Clamp, die perfekt aufeinander abgestimmt sind.

     

    Unsere Kontroller sind modular aufgebaut. Driver, Schnittstelle, Temperaturkontrolle und Stromversorgung können kundenspzifisch integriert werden.

     

    Wesentliche Eigenschaften sind u.a.:

    • CE, RoHS und EM zertifiziert
    • Custom interface [e.g. Canbus (DeviceNet), Ethernet, PLC, RS232, RS485]
    • Messung von Strom und Kapazität mit einer Auflösung von ≤5 nA/≤10 pF
    • Erweiterte Status Information (Spannung/ Strom/ Kapazität/ Wafer Status)
    • Ausgangsspannung: bis zu ± 5kV pro Kanal

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    Downloads

    whitepaper_perfecting_chucks_clamping_force_flatness.jpg

    White Paper
    Perfecting Chucks:
    Clamping Force
    and Flatness

    (PDF, 475 Kb)

     

    veröffentlicht am 26.09.2014