Chuck-Design | Berliner Glas

Berliner Glas unterstützt neben der Halbleiterindustrie auch andere Industriezweige, wie bspw. die Flatpanel- oder auch die Photovoltaik- und Beschichtungsindustrie mit innovativen elektrostatischen Chucks oder Vakuum Chucks für die verschiedensten anspruchsvollen Bearbeitungsschritte.

Zuverlässige Chucking Systeme bieten wesentliche Vorteile wie integrierte Heizung/ Kühlung und ein- oder beidseitiges Halten (Clampen) mit maßgeschneiderten Strukturen für unsere Kunden. Auch Hybrid-Chucks, die die Vorteile von elektrostatischen Chucks mit denen von Vakuum-Chucks verbinden, finden sich in unserem Produktportfolio wieder.

Mit extrem hoher Ebenheit und sehr geringen Abweichungen in der Parallelität, bieten wir der Industrie ultraschnelle Chucking Lösungen für höchste Ausbeute in einer leistungsstarken Chip- und Flatpanel-Herstellung. Damit ist Berliner Glas eines der Unternehmen, die die EUV-Lithographie unterstützen.

Unsere Kompetenzen

Chuck Aufbau

Chucks für Wafer bis zu 300mm (12inch)
Chucks für Masken (Reticle)
Weitere kundenspezifische Formate bis 400 x 500 mm²
Ein- oder beidseitiges Halten (Clampen)
Integrierte Wasserkühlung (optional)
Integrierte elektrische Beheizung (optional)
Hybrid-Chucks (ESC & Vakuum-Chuck kombiniert)
Angepasste funktionale Oberflächenbeschichtungen

ESC spezifisch:

Bis zu 8 Elektroden pro Seite
Ein- oder mehrpolare Elektroden (Mono- und bipolare Systeme)
Coulomb- und Johnsen-Rahbek Typen

Typen von elektrostatischen Chucks

Vakuum Chuck spezifisch:

Bis zu 4 separate Vakuumsegmente
Rotationsfähigkeit

HV-Netzteile/-Ansteuerungen

Elektrische Ansteuerungen sind für die jeweilige Anwendung konfektioniert

Ebenheit

Globale Ebenheit < 100nm über 300mm
Winkelfehler innerhalb eines Belichtungsfeldes nur wenige Nanometer

Globale Ebenheit < 100nm über 300mm

Haltekraft (spezifische Clampkraft)

Homogene Haltekraft (Clampkraft) über die gesamte Haltefläche (Clampfläche)

Spezifisch für Elektrostatische Chucks:

Materialien mit hohem elektrischen Widerstand ermöglichen schnelles Halten (Clampen)
Materialien mit hoher elektrischer Durchschlagfestigkeit ermöglichen hohe Haltekräfte (Clampkräfte)
Bis zu 0,5 bar Haltekraft
Zeitkonstanten für Halten und Lösen kleiner 0,1 Sekunden
Nur 1 mW elektrische Verlustleistung auf 12 Zoll (300 mm) Bereich

Spezifisch für Vakuum Chucks:

Bis zu 1 bar Haltekraft
Hohe Temperaturleitfähigkeit und Temperierung auf wenige mK genau
Auswuchten für rotationsfähige Chucks

Clampkraft-Zeit-Auswertung

Material

Materialien mit "Nullausdehnung" wie Zerodur, ULE & Cordierit
Materialien mit siliziumangepasster Ausdehnung aus Silizium-Karbid, Silizium-Nitrid, SiSiC & Borosilikatglas
Angpasste oxidische und nichtoxidische Keramiken für Strukturelemente
Thermales und athermales Design durch Einsatz entsprechend wärmeleitender Materialien (maßgeschneiderte thermische Leitfähigkeit durch den Einsatz verschiedener Materialien)
Hohe Steifigkeit von bis zu 380 GPa (41 MPsi)
Verschleißfeste Schichten zum Schutz empfindlicher Materialien
Hohe chemische Reinheit aller Materialien und geringe Ausgasraten entsprechend Fab-Standards

Elektrostatischer Chuck aus Glas und Keramik

Vacuum Chuck aus SiSiC

Mikrostruktur

Noppen oder Kanal-Strukturen minimieren die Kontaktfläche des Wafers zum Chuck zur Senkung der Partikelsensitivität
Funktionale Oberflächenbeschichtung für erhöhten Verschleißschutz und optimiertes Ablöseverhalten des Wafers

Test & Qualifizierung

• Interferometer bis 24 Zoll horizontalem und 12 Zoll vertikalem Strahlengang
• Kundenspezifische Software für die Auswertung hochgenauer Ebenheiten
• Anwendungsnahe elektrische Qualifizierung (Hochspannungstest)
• Clampkraft Messung
• Restgasanalyse (RGA)
• Durchflusstests für Wasser und Gas